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英特尔或在2025年夺回制程技术领先地位 Intel 18A工艺研发正在加速

时间:2022-04-16 19:34:34
  • 来源:超能网
  • 作者:吕嘉俭
  • 编辑:豆角

英特尔在去年七月份的“英特尔加速创新:制程工艺和封装技术线上发布会”上,展示了一系列底层技术创新,以驱动英特尔到2025年乃至更远未来的新产品开发。除了公布其近十多年来首个全新晶体管架构RibbonFET和业界首个全新的背面电能传输网络PowerVia之外,英特尔还重点介绍了迅速采用下一代极紫外光刻(EUV)技术的计划,即高数值孔径(High-NA)EUV,并将部署业界第一台High-NA EUV光刻机。

英特尔或在2025年夺回制程技术领先地位 Intel 18A工艺研发正在加速

英特尔最新工艺路线图看起来是非常积极的,这是一个四年内推进五个制程节点的计划。虽然帕特-基尔辛格(Pat Gelsinger)回归英特尔担任CEO以后,蓝色巨人的表现有所起色,但鉴于过去多年来的羸弱表现,不少人对这份工艺路线图持保留态度。近日,半导体咨询公司IC Knowledge的总裁Scotten Jones为SemiWiki撰写了一篇文章,谈及了自己对英特尔的计划从怀疑到获得信心的过程。

Scotten Jones分析了英特尔、台积电和三星未来几年可能的半导体技术研发情况,认为英特尔随着更多地使用极紫外(EUV)光刻设备,加上在Intel 20A制程节点引入RibbonFET和PowerVia两大突破性技术,将会有一个巨大的突破。预计2024年末(最初的说法是2025年初)英特尔将推出对RibbonFET改进后的Intel 18A,那么很可能在2025年压倒台积电的N2制程节点,取得每瓦性能的领先。

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